EUV露光技術とレコード製作

投稿者: きくずみん 投稿日:

ラピダス ベルギー研究機関と次世代半導体開発で連携:日本経済新聞

EUV露光技術

imecが持つ露光装置の先端技術。マスクを通してシリコンウエハーに溝を作る

半導体の製造、アナログレコード製作で原盤のプレスと理屈は同じ

カテゴリー: othersWBSレーベル

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